好谋：未来的“小目标”

日渐激增的机时申请和正在加剧的科技战，让中国散裂中子源的“升级”成为现实需求。

早在工程设计之初，科研人员就为装置升级预留了空间。正因如此，未来可以直接在一期工程的基础上升级改造。

陈延伟介绍，目前，中国散裂中子源已经完成一期全部设计指标。2020年2月，打靶束流功率达到100千瓦的设计指标，比原计划提前一年半；2022年2月，打靶束流功率达到125千瓦，超过设计指标25%，并且实现了稳定高效运行，大幅提高了装置性能。

提升打靶束流功率，会使装置在同等时间里产生更多中子，进而使实验时间缩短，样品分辨率提高。“就好比白天光线强时拍照，曝光时间会比晚上拍照时短，而且拍出来的照片也会更清晰。”陈延伟解释说。

科研人员未来的“小目标”之一，就是将打靶束流功率提升到500千瓦，让中子源变得更“亮”。

此外，散裂中子源科学中心副主任梁天骄介绍，中国散裂中子源升级改造后，有望覆盖用户需求的绝大部分领域，满足更多尺度结构和动力学表征，为多学科交叉研究提供更有力的支撑。

如今，趁着暑期停机检修，这里的科研人员正在为即将安装的新谱仪和实验终端做前期准备。对于该装置未来的进展，《中国科学报》将持续关注。